真空（kōng）鍍膜（mó）怎麽選電源（yuán）

在真空鍍膜電源時（shí），使用直流負偏壓電源，其中運用直流電源，這個（gè）電源的電子方向一直統一，會導致（zhì）單（dān）一品種電荷堆（duī）積過高與控製源中和。也就是說用來提供動力的正負極被中和了（le）。然後磁控濺射將不再持續。所以選用（yòng）脈衝電源。

在真空中製備（bèi）膜層，包含鍍（dù）製晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。雖（suī）然化學汽相堆積（jī）也選用減壓、低壓或等離子體等真空手法，但一般真空鍍膜是指用物理的辦法堆積薄膜。真空鍍膜有三種方式，即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和（hé）離子鍍。

真空鍍膜技能初現於20世紀30年代，四五十年代開端呈現工業（yè）使用，工業化大規模出產開端於20世紀80年代，在電子、宇航、包裝、裝（zhuāng）潢、燙金印刷等工業中（zhōng）獲得廣（guǎng）泛的使用。真空鍍膜是指在真空環境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的方式堆（duī）積到資（zī）料外（wài）表（通常是非金屬資（zī）料），歸於物理氣相堆積工藝。由於鍍（dù）層常為（wéi）金屬薄膜，故（gù）也稱真空金屬化。廣義的真空鍍膜還包含在金屬或非金（jīn）屬資料外表真空蒸鍍聚合物等非金屬功用性薄膜。在所有被鍍資猜中，以塑料樶為常見，其次，為紙張鍍膜。相對於金屬、陶瓷、木材等資料，塑料具有來曆充足、性能易於調控（kòng）、加工方便等優勢，因（yīn）此品種繁多的塑料（liào）或其他高分子（zǐ）資料作為工程裝修性結構資（zī）料，大量（liàng）使（shǐ）用於轎車、家電、日用包裝、工藝裝（zhuāng）修等（děng）工業領域。但塑料資料大多存在外（wài）表硬度不高、外觀不行華麗、耐磨性低等缺點，如在（zài）塑料外表蒸鍍（dù）一層極薄的金屬薄膜，即可賦予（yǔ）塑料程（chéng）亮的金屬外觀，合（hé）適的金（jīn）屬源還可大大增加資料外表耐磨性能，大大拓寬了塑料的裝修性（xìng）和使用範圍。

真空鍍膜的功用是多方麵的，這也決議了其使用場（chǎng）合非（fēi）常（cháng）豐富。整體來說，真空鍍膜的主要功用包含（hán）賦予被鍍件外表高度金屬光澤和鏡麵效果，在薄（báo）膜資料上使膜層（céng）具有超（chāo）卓的隔絕（jué）性能，提供優異的電磁屏蔽和導電效果。