主要型號:
型號 | 功率(W) | 工作電壓(V) | 最大峰值電流(A) | 外形尺寸 | 冷(lěng)卻方式 |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主要特(tè)點:
A 可選擇三角波、矩形波、正弦波三種(zhǒng)波形,波形的最高值和最低(dī)值可獨(dú)立(lì)設置(zhì)。
B輸出電壓範圍:-40V~+40V。
C波形頻率範圍:0.1-50Hz
D三角波、矩形波占空比10%~90%
E 可選擇手動控製/模擬(nǐ)量接口控製,可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術,使用進口(kǒu)IGBT或MOSFET作為功率(lǜ)開關器件,
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可(kě)靠,生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統,充分保證鍍膜工藝(yì)的重複性,
並且具有抑製靶材弧光放電及抗(kàng)短路功能,
具有極佳的負載(zǎi)匹配能力(lì),既保證了靶麵(miàn)清洗工藝的穩定性,又提高了靶麵清洗速(sù)度;
主要參數均(jun1)可大範圍連續調(diào)節(jiē);
方便維護,可靠性高;
PLC接(jiē)口和(hé)RS485接口擴展功能,方便實現自動化控製。
主要用途:
MS係列勵磁多波形電源選(xuǎn)擇多種電壓波形輸(shū)出。通過驅動多弧靶外圍磁場線(xiàn)圈,產生周期性可變磁磁場,使多弧輝光由原來的集中放電變為均勻放電,提(tí)高工件(jiàn)膜層質(zhì)量
真(zhēn)空鍍膜電源廠家告訴(sù)你高頻開關電(diàn)鍍電源應用在(zài)金屬表麵處理及小功率範(fàn)圍內(nèi)的國內市場(chǎng)已經接受,具有廣闊的(de)市場(chǎng)前景。但產品主(zhǔ)要局限於1500A以下的中小功(gōng)率領域,在國內也隻有少量廠家生產,從技術角度看主(zhǔ)要限於硬開關變換模式和模擬控製方式,可靠性(xìng)、EMC及工藝(yì)結構等(děng)方麵(miàn)具有明顯的局限(xiàn)性,同焊接等領域(yù)全麵(miàn)推廣應用開關式電源的景況具(jù)有較(jiào)大差距。
真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸(zhēng)發並凝結(jié)於鍍件(金屬、半導體或絕緣體(tǐ))表麵而(ér)形成薄膜的一種方法。
真空(kōng)鍍膜這一塊(kuài)是真空應用領域的重要方麵,在真空中以真空(kōng)技術為基礎,把物理方法和化學方法利用(yòng)起來,通過吸收分子束、離子束、電子束、等離子束、射頻和磁控等一係列高新技術,在科學研究(jiū)和實(shí)際生產中,為薄膜製備提供(gòng)一種新工藝,簡單的一點來(lái)說,要在(zài)真空中利用合金、金屬或化合物進行蒸發和濺射,並讓被塗覆的物體(有基片、稱基板(bǎn)、基體等等)進行凝固並沉積,這種方法稱為真(zhēn)空鍍(dù)膜,那真空鍍膜電源就可想而知,眾(zhòng)所(suǒ)周知,在(zài)一些(xiē)材料的表麵上鍍上一(yī)層薄膜,就可以使這種材料具有多種性能,例如良好的物理和化學性能並且是嶄新的;
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