上海（hǎi）MS係列勵磁多波形電源

主要型號：

主要特點：
   A 可（kě）選擇三（sān）角波、矩形波、正弦波三種波形，波形的最高（gāo）值和最低值可獨立設置（zhì）。
   B輸（shū）出電壓（yā）範圍：-40V~+40V。
   C波形（xíng）頻率範圍：0.1-50Hz
   D三角波、矩形波占空比10%~90%
   E 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
采用先（xiān）進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產（chǎn）工藝嚴格完善。
該係列（liè）產品采用先進的DSP控製（zhì）係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具（jù）有抑製靶材（cái）弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載（zǎi）匹配能力，既保證（zhèng）了靶麵清（qīng）洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參（cān）數均可大範圍（wéi）連續調節；
方便（biàn）維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要用途：

MS係列勵磁多波形電源選擇多種電壓（yā）波形輸出。通過驅動多弧靶外圍磁場線圈，產生周期性（xìng）可變磁（cí）磁場，使多弧輝光由原來的集中放電變（biàn）為均勻放電（diàn），提高工件膜層質量

真空鍍膜電源廠家告訴你高頻開關電鍍電源應用在金屬表麵處理及小功率範圍內的國內市場（chǎng）已經接受，具有廣闊的市場前景。但產品主要局限於1500A以下的中小功率領域，在國（guó）內也隻有少量廠家生產（chǎn），從技術角度看主要限（xiàn）於硬開關變換模式和模擬控製方式，可靠性（xìng）、EMC及工藝結構等方麵具有明顯（xiǎn）的局限性，同焊（hàn）接等領域（yù）全麵推廣應用開關式電源的景況具有較（jiào）大（dà）差距。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬（shǔ）材料，使其蒸發並凝結於鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表麵而形（xíng）成薄膜的一種（zhǒng）方法。

真空鍍膜這（zhè）一塊是真空（kōng）應用領域的重（chóng）要方麵，在真空中以真（zhēn）空技術為基礎，把物理方法和化學（xué）方法利用起來，通過吸收分（fèn）子束、離子束、電子束、等（děng）離子束、射頻和磁控（kòng）等一係列高新（xīn）技術，在科學（xué）研究和實際生產中，為薄膜製備提供一種新工藝，簡單（dān）的一點來說，要在真空中利用合金、金屬或化合（hé）物進行蒸發和濺射，並讓被塗覆的物體（有基片、稱基板、基體等等（děng））進行凝固並沉積，這種方法稱為真空鍍（dù）膜，那真空鍍膜電源就可想（xiǎng）而知，眾（zhòng）所周知，在一些材料的表麵上（shàng）鍍上一層薄膜，就可以使（shǐ）這種材料具（jù）有多種性能，例如良好的物理和化學性能並（bìng）且是嶄新的；