主要型號(hào):
型號 | 功率(W) | 工作電壓(V) | 最大峰值電流(A) | 外形尺寸 | 冷卻方式 |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷(lěng) |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主要特點(diǎn):
A 可選擇三角(jiǎo)波、矩形波、正弦波(bō)三種波形,波形的最高值和最低值可(kě)獨立設置。
B輸出電壓範圍:-40V~+40V。
C波形頻率範圍:0.1-50Hz
D三角波、矩(jǔ)形波占空比10%~90%
E 可選擇手動控製/模擬量接口控製,可選配RS485通訊接口。
采用(yòng)先進的PWM脈(mò)寬(kuān)調製技術,使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件,
體積小(xiǎo)、重量輕、功能全、性能穩定可靠,生產工藝嚴格完善。
該係列產品采(cǎi)用先進的DSP控製係統,充(chōng)分保證鍍膜工藝(yì)的重(chóng)複性,
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能(néng),
具有極佳的負載匹配能力,既保證(zhèng)了靶麵清洗工藝的穩定性,又提高了靶麵清洗速度;
主要參數均可大範圍連續(xù)調節;
方便維護(hù),可靠性高;
PLC接口和RS485接口擴展功能,方便實現自動化控製。
主要用途(tú):
MS係列勵磁多波形電(diàn)源選擇多種電壓波(bō)形輸出。通過驅動多弧靶外圍磁場線圈,產生周期性可變磁磁場(chǎng),使多弧輝光由原來的(de)集中放電變為均勻放電,提高(gāo)工件膜層質(zhì)量
真(zhēn)空鍍膜電源廠家告訴你高(gāo)頻開關電鍍電源應用在金屬(shǔ)表麵處理(lǐ)及小功率範圍(wéi)內的國內市場已經接(jiē)受,具有廣闊的市場(chǎng)前景。但產品主要局限(xiàn)於1500A以下的(de)中小功率領域,在國內也隻有少量廠家生產,從技(jì)術角度看主要(yào)限(xiàn)於硬開關變換模式和模擬(nǐ)控製(zhì)方式,可靠性、EMC及工藝結構等方(fāng)麵具有明顯的局限性,同焊接等領域全麵推廣應用開關式電源的(de)景況具有較(jiào)大差距。
真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發(fā)並凝(níng)結於鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表麵而形成薄膜(mó)的一種方法。
真空鍍膜這一塊是真空應用領域的重要方麵,在真空中以真空技術為基礎,把物理方法和化學方法利(lì)用起來,通過吸收(shōu)分子束(shù)、離子束、電子束、等離子束、射頻和磁控等一係列高新技術,在科(kē)學研究和實際生產中,為薄膜製備提供一種新工藝,簡單(dān)的一點來說,要在真空中利用合金、金屬或化(huà)合物進(jìn)行蒸發和濺射,並讓被(bèi)塗覆的物體(有基片、稱基板、基體等等)進行凝固並沉積,這種方法稱為真空鍍膜,那真空鍍膜電源就可想而知,眾所周知,在(zài)一些材料(liào)的表麵上鍍(dù)上一(yī)層薄膜,就可以使這種材料具有多種(zhǒng)性能,例如良好的物理和化學性能並且是嶄新的;