主要型號:
型號 | 功率(W) | 工作電壓(V) | 最大峰值電流(A) | 外形尺寸 | 冷卻方式 |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主要特點:
A 可選擇三(sān)角波、矩形(xíng)波、正弦波(bō)三(sān)種波形,波形的最(zuì)高值和最低值可獨立設置。
B輸出電壓範圍:-40V~+40V。
C波形頻率範圍:0.1-50Hz
D三角波、矩形波占空比10%~90%
E 可選擇手動控製(zhì)/模擬(nǐ)量接口控製,可選配RS485通訊接口。
采用先進(jìn)的PWM脈寬調製技術,使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件,
體積小、重(chóng)量輕、功能全、性(xìng)能穩定可靠,生產工藝嚴格(gé)完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統,充分保證鍍膜工藝的重複性,
並(bìng)且具(jù)有抑製靶材弧光放電及抗(kàng)短路功能,
具有極佳的負載匹配能(néng)力,既保證了靶麵清(qīng)洗工藝的穩定性,又提高(gāo)了靶麵清洗速度;
主要參數均(jun1)可(kě)大(dà)範(fàn)圍連續調節;
方便維護,可靠性高;
PLC接口和RS485接(jiē)口擴展功能,方便實現自動化控製。
主要用途:
MS係列勵磁(cí)多波形電源選擇多種(zhǒng)電(diàn)壓波形輸出。通過驅動多弧靶外圍(wéi)磁場線圈,產生周期性可變磁磁場,使多(duō)弧輝光由原(yuán)來的集中放電變為均勻放電,提(tí)高工件膜層質量

真空鍍膜電(diàn)源廠家告(gào)訴你高頻開關電鍍電(diàn)源應用在金屬表麵處理(lǐ)及小功率範圍內的(de)國內市(shì)場已經接受,具有廣闊的市場前景。但產品主要局限於1500A以下的中小功率(lǜ)領域,在國內也隻有少量(liàng)廠家生(shēng)產,從技術(shù)角度看主要限於硬(yìng)開關變換模(mó)式和模擬控製方式,可靠(kào)性、EMC及工藝結構等方麵具有明顯的局限性,同焊接等領域全麵推廣應用開關式電源的景況具有較大差(chà)距。
真空鍍膜是指在高真(zhēn)空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發並凝結於(yú)鍍件(金屬、半導體或(huò)絕緣體)表麵而形成薄膜的一種(zhǒng)方法。
真空鍍膜這一塊是(shì)真空應用領域的重要(yào)方麵,在真空中以真空技術為基礎,把物理方法和化學方法利用起來,通過吸收分子束、離子束、電子束、等離子束、射(shè)頻和磁控等一係列高新技術,在科學研究和實際生產中,為薄膜製備提供(gòng)一種新工(gōng)藝,簡單的一點來說,要在真空中利用合金、金屬或化(huà)合物進行蒸發和(hé)濺射,並(bìng)讓(ràng)被塗覆的物體(有(yǒu)基片、稱基板(bǎn)、基體等等(děng))進行凝固並沉積,這種(zhǒng)方法稱為真空鍍膜,那真(zhēn)空鍍膜(mó)電源就可想而知(zhī),眾所周知,在一些材(cái)料的表麵上(shàng)鍍上一層薄膜,就可以使這種材料具有多種性能,例(lì)如良(liáng)好的物理和化學性能並且是嶄新(xīn)的;
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